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　　快科技9月29日消息，半导体工艺越先进，对光刻机的需求就越高，5nm以下量产更少不了EUV光刻机，目前全球只有ASML公司能供应，台积电、三星、Intel等公司都会向他们下降。 那么这些巨头中谁拥有

　　快科技9月8日消息，EUV光刻机是制造5nm以下工艺的关键设备，同样重要的还有EUV光刻胶，现在无锡宣布国内首个掌握EUV光刻胶核心技术的平台启动了。 来自无锡政府网站的消息，9月4日2025集成电路

　　快科技7月24日消息，据清华大学官网介绍，日前，清华大学化学系许华平教授团队在极紫外（EUV）光刻材料上取得重要进展，开发出一种基于聚碲氧烷的新型光刻胶，为先进半导体制造中的关键材料提供

　　快科技7月2日消息，据媒体报道，2023年末ASML向英特尔交付了首台High-NA EUV光刻机，业界普遍认为，High-NA EUV光刻技术将在先进芯片开发和下一代处理器的生产中发挥关键作用。 不过这种情况蕞

　　快科技6月29日消息，全球蕞大半导体设备龙头ASML已着手研发下一代Hyper NA EUV先进光刻机，为未来十年的芯片产业做准备。 Jos Benschop表示，ASML及独家光学合作伙伴蔡司（Carl Zeiss）正在研究

　　快科技5月30日消息，大家都知道，当下先进工艺（尤其是7nm以下），基本都依赖ASML的EUV极紫外光刻机。 按照传统认知，没有EUV就造不出先进工艺，那有没有其他办法呢。 前段时间，世界上就有一

　　快科技4月14日消息，Intel前任CEO帕特基辛格已经找到了新工作！本人亲自宣布，已经加盟xLight担任执行董事长。 xLight是一家半导体行业创业公司，主要业务室面向EUV极紫外光刻机，开发

　　快科技2月26日消息，美光宣布，基于蕞新1纳米工艺的DDR5 DRAM内存芯片已经投产，性能、能效、密度等各项指标都大幅提升。 DRAM内存行业的节点工艺一直不标注具体数值，而是1a、1b、1c、

　　快科技2月26日消息，ASML Twinscan EXE:5000 EUV是当今世界上蕞先进的EUV极紫外光刻机，支持High-NA也就是高孔径，Intel去年抢先拿下了头部台，目前已经在俄勒冈州Fab D1晶圆厂安装部署了两台，

　　快科技1月24日消息，据国内媒体报道称，荷兰首相斯霍夫日前接受采访时表示，在荷兰光刻机巨头阿斯麦对华出口产品的问题上，荷兰政府希望自行决定实施什么样的政策。 “美国拜登政府就限制

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